Espectrômetro ICP-OES de última geração
ICP-OES de alto desempenho para análise elementar simultânea de elementos traço, menores e majoritários em matrizes simples ou complexas. Combina alta sensibilidade, ampla faixa dinâmica e flexibilidade de observação do plasma para aplicações avançadas em indústria, pesquisa e controle de qualidade.
MultiView
Observação axial e radial verdadeira no mesmo instrumento.
Até 130–770 nm
Ampla cobertura espectral, incluindo a região UV/VUV.
Sistema UV-Plus
Banco ótico selado e sem purga
Sem chiller externo
Sistema totalmente refrigerado a ar, reduzindo infraestrutura e custos operacionais.